上海新安纳电子科技有限公司
企业简介

上海新安纳电子科技有限公司 main business:硅溶胶和电子材料及相关产品的研发、生产并提供相关的技术服务和技术咨询,销售公司自产产品。 【依法须经批准的项目,经相关部门批准后方可开展经营活动】 and other products. Company respected "practical, hard work, responsibility" spirit of enterprise, and to integrity, win-win, creating business ideas, to create a good business environment, with a new management model, perfect technology, attentive service, excellent quality of basic survival, we always adhere to customer first intentions to serve customers, persist in using their services to impress clients.

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上海新安纳电子科技有限公司的工商信息
  • 310000400577448
  • 91310116676273009U
  • 存续(在营、开业、在册)
  • 有限责任公司(自然人投资或控股)
  • 2008年07月01日
  • 宋志棠
  • 1000.000000
  • 2008年07月01日 至 2048年06月30日
  • 金山区市场监管局
  • 2008年07月01日
  • 上海市金山工业区天工路285弄2幢
  • 硅溶胶和电子材料及相关产品的研发、生产并提供相关的技术服务和技术咨询,销售公司自产产品。 【依法须经批准的项目,经相关部门批准后方可开展经营活动】
上海新安纳电子科技有限公司的域名
类型 名称 网址
网站 上海新安纳电子科技有限公司 www.xinanna.com
上海新安纳电子科技有限公司的专利信息
序号 公布号 发明名称 公布日期 摘要
1 CN103484025B 一种自停止的GST化学机械抛光液及其制备方法和应用 2015.07.08 本发明涉及化学机械抛光领域,特别是涉及一种可有效应用于相变材料GST的自停止化学机械抛光液及其制备方
2 CN102391787B 一种用于硅单晶片抛光的抛光液及其制备与应用 2014.04.02 本发明属于硅片加工中的化学机械抛光领域,涉及一种用于硅单晶片抛光的抛光液及其制备和使用方法。本发明的
3 CN102585705B 一种用于蓝宝石衬底的化学机械抛光液及其应用 2014.02.05 本发明公开了一种高抛光速率的用于蓝宝石衬底的化学机械抛光液,包含有磨料、pH值调节剂、表面活性剂、消
4 CN103484025A 一种自停止的GST化学机械抛光液及其制备方法和应用 2014.01.01 本发明涉及化学机械抛光领域,特别是涉及一种可有效应用于相变材料GST的自停止化学机械抛光液及其制备方
5 CN101857774B 一种提高硅衬底化学机械抛光速率的抛光组合物及其应用 2013.12.25 本发明公开了一种提高硅衬底化学机械抛光速率的抛光组合物及其应用,本发明的抛光组合物,包括水、磨料和氟
6 CN102061131B 一种降低硅片表面微划伤的抛光液及其制备和使用方法 2013.06.19 本发明属于硅片加工中的化学机械抛光领域,涉及降低硅片表面微划伤的抛光液及其制备和使用方法。本发明的抛
7 CN101818047B 氧化硅-氧化铈核壳复合磨料颗粒及其制备和应用 2013.04.24 本发明属于微电子加工中的化学机械抛光浆液领域,具体涉及氧化硅-氧化铈核壳复合磨料颗粒及其制备和应用。
8 CN101671538B 一种氧化硅/氧化铈复合磨粒的制备方法 2012.10.10 本发明涉及一种氧化硅/氧化铈复合磨粒的制备方法,包括下列步骤:1)在硅溶胶中加入有机添加剂,搅拌溶解
9 CN102585705A 一种用于蓝宝石衬底的化学机械抛光液及其应用 2012.07.18 本发明公开了一种高抛光速率的用于蓝宝石衬底的化学机械抛光液,包含有磨料、pH值调节剂、表面活性剂、消
10 CN102391787A 一种用于硅单晶片抛光的抛光液及其制备与应用 2012.03.28 本发明属于硅片加工中的化学机械抛光领域,涉及一种用于硅单晶片抛光的抛光液及其制备和使用方法。本发明的
11 CN102061131A 一种降低硅片表面微划伤的抛光液及其制备和使用方法 2011.05.18 本发明属于硅片加工中的化学机械抛光领域,涉及降低硅片表面微划伤的抛光液及其制备和使用方法。本发明的抛
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